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钌靶 钌溅射靶材

铼金属系列

咨询电话

0731-88590085

产品形貌
参数

应用

钌靶主要用于真空镀膜领域

产品规格

物理性子

颜色

硬 ,脆的银色有数金属

密度

12.37g/cm³

熔点

2250℃

手艺指标

纯度

99.95%

相对致密度

>99%

切面平整度

3.2Ra

公差

±0.1mm

晶粒度

匀称

材质

Ru

产品规格

 

规格01多弧靶:直径<1000mm  厚度>1mm 

规格02矩形:长度:不限 宽度:不限 厚度:不限  矩形/片材/台阶状(长宽可拼接)

规格03圆柱:外直径<420mm 内直径>1mm 壁度>1mm 长度>1mm(管材/圆环/旋转靶材)

规格04:颗粒球型 ,粉末型

规格05:凭证用户需要举行定制 ,来样加工 ,来图加工

最少起订量

1件 ,量大优惠

交货期

原质料种种尺寸大宗备货 ,恒久供应 ,质量可靠。

制作工艺

真空磁悬浮熔炼 ,浇铸成锭 ,热机械处置惩罚和细密机械加工

产品用途

真空镀膜 ,实验或研究级别用钌靶材 ,电子 ,光电 ,军用 ,装饰镀 ,功效薄膜等

产品优点

质量可靠 ,价钱优惠

真空熔炼 ,提纯制备 ,纯度高 ,杂质少

轧制致密 ,氧化少 ,成型可塑

 相对致密度高 ,晶粒匀称等轴 ,一致\性高

产品附件

正式报价单/购销条约/装箱单/材质剖析检测单/正规发票

包装方法

真空包装

 

典范化学剖析

杂质因素(ppm)

Os

Pt

Ni

Fe

Si

Pd

Ti

As

4

2

2

5

8

2

2

2

Bi

Cu

Zr

Ca

Zn

Se

Mg

 

2

2

2

2

2

2

2

 

杂质因素(低于仪器检测规模)(ppm)

V

Sn

Rh

Ir

Mo

Ag

Cd

Sb

<2

<2

<2

<2

<2

<2

<2

<2

Mn

Al

Co

Te

Au

B

Pb

Cr

<2

<2

<2

<2

<2

<2

<2

<2

要害词:
钌靶
钌溅射靶材
贵金属钌靶
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钌合金靶
溅射钌靶
半导体靶材
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