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钌靶 钌溅射靶材

铼金属系列

咨询电话

0731-88590085

产品形貌
参数

应用

钌靶主要用于真空镀膜领域

产品规格

物理性子

颜色

硬,脆的银色有数金属

密度

12.37g/cm³

熔点

2250℃

手艺指标

纯度

99.95%

相对致密度

>99%

切面平整度

3.2Ra

公差

±0.1mm

晶粒度

匀称

材质

Ru

产品规格

 

规格01多弧靶:直径<1000mm  厚度>1mm 

规格02矩形:长度:不限 宽度:不限 厚度:不限  矩形/片材/台阶状(长宽可拼接)

规格03圆柱:外直径<420mm 内直径>1mm 壁度>1mm 长度>1mm(管材/圆环/旋转靶材)

规格04:颗粒球型,粉末型

规格05:凭证用户需要举行定制,来样加工,来图加工

最少起订量

1件,量大优惠

交货期

原质料种种尺寸大宗备货,恒久供应,质量可靠。

制作工艺

真空磁悬浮熔炼 ,浇铸成锭,热机械处置惩罚和细密机械加工

产品用途

真空镀膜,实验或研究级别用钌靶材,电子,光电,军用,装饰镀,功效薄膜等

产品优点

质量可靠,价钱优惠

真空熔炼,提纯制备,纯度高,杂质少

轧制致密,氧化少,成型可塑

 相对致密度高,晶粒匀称等轴,一致\性高

产品附件

正式报价单/购销条约/装箱单/材质剖析检测单/正规发票

包装方法

真空包装

 

典范化学剖析

杂质因素(ppm)

Os

Pt

Ni

Fe

Si

Pd

Ti

As

4

2

2

5

8

2

2

2

Bi

Cu

Zr

Ca

Zn

Se

Mg

 

2

2

2

2

2

2

2

 

杂质因素(低于仪器检测规模)(ppm)

V

Sn

Rh

Ir

Mo

Ag

Cd

Sb

<2

<2

<2

<2

<2

<2

<2

<2

Mn

Al

Co

Te

Au

B

Pb

Cr

<2

<2

<2

<2

<2

<2

<2

<2

要害词:
钌靶
钌溅射靶材
贵金属钌靶
钌靶生产厂家
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钌合金靶
溅射钌靶
半导体靶材
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